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半导体封装材料除卤素助剂,让电子级环氧树脂降低氯、溴的离子捕捉剂、吸附剂_残留_工艺

发布日期:2025-07-21 08:53    点击次数:188

科技新进展:IC半导体封装用无机离子吸附剂/捕捉剂厂家,推出电子级环氧树脂塑封料内添加粉体,一种耐高温的钠/氯/溴/银/铜离子吸附剂,对阳离子/阴离子都有效,降低卤素,增强耐腐蚀能力。GrabMax®是新型无机离子吸附剂产品,不仅具有吸附效率高、耐热、耐化学性能好等优点,而且使用环境不受限制,在高温或者无水环境下仍具有显著效果。GrabMax®能捕捉IC封装材料中的钠、氯、溴等杂质离子,防止环氧树脂的配线和电极被腐蚀,从而提高IC等电子材料的耐腐蚀性,增强材料的综合使用性能。

在半导体封装过程中,离子捕捉(Ion Trapping)是指封装材料或工艺中残留的离子污染物(如Na⁺、K⁺、Cl⁻等)被截留在器件内部或界面处,可能导致器件可靠性问题(如电迁移、腐蚀、阈值电压漂移等)。以下是关于离子捕捉的详细解析:

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1. 离子来源

封装材料:

环氧树脂、模塑料(Molding Compound)、底部填充胶(Underfill)等可能含有游离离子(如卤素离子Cl⁻、Br⁻)。

焊料助焊剂中的酸性残留物(如羧酸根离子)。

工艺污染:电镀液、清洗剂、切割冷却液等残留。

环境中的Na⁺、K⁺(来自人体汗液或灰尘)。

芯片本身:

前道工艺中未完全清除的金属离子(如Al³⁺、Cu²⁺)。

发布于:上海市

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